到了这年纪，对物质方面没什么追求，只想尽快迎头追赶，避免进一步落后。
吃饭期间。
见倪老想去参观尼康和佳能的光刻机生产线，苏业豪这时候点点头，告诉说：
“行吧，如果以客户身份登门，应该没什么问题。我从资料上看见过，现在光刻机卡在193纳米的技术门槛上，如果能押对下一代技术，是不是有希望弯道超车？”
席间喝了点原住民自酿的红枣米酒，这玩意儿喝起来很舒服，可一杯接一杯没个准数，一不小心就多了，也挺上头。
倪老面色微红，听完笑着开口：
“理论上是这样，不过现在谁都不清楚出路究竟在哪。”
“我看过一些相关的论文，目前市场上主流的研发思路，都是在157n的干式光刻技术路径上，佳能、尼康都在往这方面尝试。”
“另外，还有一项新的理论挺有意思，一位华裔越南科学家叫做林宝坚，他提出用水作为曝光介质，光源波长还是用原来的193n，但通过水的折射，让进入光阻的波长缩小到134n，起名叫做浸没式，我在杂志上看见过。”
内容未完，下一页继续阅读