似乎知道方年会有疑惑，说到这里，温叶特地补充了几句“浸入式光刻实际上一直可以支持到纳米制程的光刻；
根据晶圆试验线的负责教授解释
传统国际半导体技术蓝图定义光刻制程技术节点的是最小金属间距。
又根据一个瑞利公式=（λ），降低波长λ，提高镜头的数值孔径，降低综合因素，即可不断演进光刻制程。
激光光源从年代末至今就一直是停滞在波长；
不过有人提出了新的方案，一个工程上很简单的办法，在晶圆光刻胶上加厚的水，水可以把的光波长折射成，再做到半周期；
总之……
晶圆实验室的教授很有信心保证能在较短时间内突破至纳米光刻，之后可能会漫长一点，但也不会是太久远的事情。”
一口气照本宣科的说完，温叶并未多停顿，继续解释。
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