“光刻机的定位分辨率一般来说，比制程分辨率会高一到两代。”
“我们新科目前采用的芯片制程是035微米技术，定位分辨率则能够达到025微米水平。”
“按照正常的研发序列，我们接下来五年时间里会陆续开发出018和013微米级别的定位分辨率技术。”
“受限于我们目前的技术水平，到2004年我们最多可以把定位分辨率推进到90纳米。”
送走了林千军，王中军在实验室的闭门小会里露出了一脸愁容。
大家打完了鸡血，热情却不能直接变成科研成果，而科学技术又从来不以人的意志为转移。
所以在说到具体问题的时候，该掉头发还是要掉头发的。
“情况就是这么个情况，我们现在能够做到025微米已经是为了追赶国际先进水平，付出极大压力之后的成果了。”
“可是如果要满足有关单位的需求，我们的纳米光栅必须达到100纳米的分辨率。这已经不是亚微米技术，而是微纳米的范畴了。也就是说，我们需要跨越至少五年时间的技术发展，将定位分辨率提前推到100纳米。”
王中军说到这里不由皱起眉头，手摸着烟盒却没有打开：“都说说吧，有什么思路没有？”
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