第四百五十三章 要撤离东神大?这是要放弃研究1nm工艺光刻机了? (1 / 11)

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        第四百五十二章1n工艺光刻机都捣鼓出来了,怎么秦总师还一脸不满意呢?

        极紫光的关键点在于什么?

        经过一个月的研究,秦逍终于有了自己对极紫光的一种理解。

        而这其中,难度最大的,莫过于euv光源的激发。

        所以,极紫外光刻技术,也被称之为euv光刻,是目前全世界范围内,最先进最前沿光刻机使用的一种光刻技术。

        而想要达成极紫光刻技术,最重要的一点就是不会产生辐射的光源激发。

        经过这段时间的研究,秦逍发现,中性原子和凝聚态物质不会产生euv辐射。

        但想要让一种材料发光,首先需要做到的就是电离,因为极紫外光,只会被多个带正电的离子束缚的电子产生。

        举个例子,一个电子从+3碳离子ev的要求,这样的电子比典型的价电子更紧密地结合。

        多价正离子只能存在于高温高密度等离子体中,并且自身会强烈吸收euv。

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